Меню

Технологии

ТЕХНОЛОГИЧЕСКИЕ ПРОЦЕССЫ КОМПАНИИ OMMIC

ommic_logo.png

На сегодняшний день, компания OMMIC насчитывает 10 технологических процессов, один из которых основан на нитриде галлия на карбиде кремния.


   Наименование технологии         Тип        Длина затвора (мкм)   
ED02AH pHEMT       0,18
D01PH pHEMT      0,13
D01MH  mHEMT       0,1
DH15IB  HBT      1,5
D007IH    mHEMT       0,07
E01MH  mHEMT       0,1
D004IH  mHEMT       0,04
DH05IB HBT      0,5
D025PHS pHEMT      0,25
D01GH   GaN/Si       0,1



Технология ED02AH

Технология формирования PHEMT структур с затвором 0.18 нм полностью освоена для серийного производства с 1995 года. Формирование транзисторов обогащенного и обедненного типов позволяет применять ее для малошумящих и смешанных аналого-цифровых интегральных схем.

Характеристики:

  • Два пороговых напряжения

         - обогащенный режим (225 мВ)

         - обедненный режим (-900 мВ)

  • Напряжение пробоя затвор-сток (Vbgd): 8В (номинально)
  • Предельная частота усиления по току (Ft): 63 ГГц и 60 ГГц (PCM)
  • Формирование в схеме любых пассивных элементов

Технология ED02AH включена в перечень предпочтительных электронных деталей и узлов Европейского космического агентства (ESA).



Технология D01PH

Технология получения PHEMT обедненного типа с длиной затвора 135 нм – полностью освоена для серийного производства с 1999 года. Применяется для изготовления сверх малошумящих и работающих при среднем уровне мощности устройств в диапазоне частот от 1 до 50 ГГц. Наилучшим образом подходит для схем с уровнем шума <0,6 дБ на частоте 2 ГГц и <1.5 дБ на частоте 10 ГГц.

 

Характеристики:

  • Напряжение пробоя затвор-сток (Vbgd): 12 В (номинально)
  • Напряжение пробоя (Vt): -0,9 В
  • Предельная частота усиления по току (Ft): 100 ГГц
  • Предельная частота усиления по мощности (Fmax): 180 ГГц
  • Минимальный уровень шума: 1дБ на частоте 30 ГГц
  • P1дБ/мм (40 ГГц) > 400 мВт/мм
  • Формирование в схеме любых пассивных элементов
  • Возможно увеличение толщины металлического слоя для оптимизации шумовых характеристик.

Технология D01PH включена в перечень предпочтительных электронных деталей и узлов Европейского космического агентства (ESA).



Технология D01MH

Технология изготовления MHEMT с длиной затвора 125 нм – полностью освоена для серийного производства с 2010 года. Используется для реализации сверхмалошумящих схем в диапазоне до 90 ГГц. Наилучшим образом подходит для приборов, требующих сверх малых шумов в диапазоне частот от Ku до Е, таких как спутниковая связь или системы наведения в диапазоне частот 27 - 40 ГГц

 

Характеристики:

  • Напряжение пробоя затвор-сток (Vbgd): 10 В (номинально)
  • Напряжение пробоя (Vt): - 0,9В
  • Предельная частота усиления по току (Ft): 150 ГГц
  • Предельная частота усиления по мощности (Fmax): 250 ГГц
  • Минимальный показатель шума: 0.8 дБ при частоте 30 ГГц
  • Формирование в схеме любых пассивных элементов

Технология D01MH проходит испытания на включенение в перечень предпочтительных электронных деталей и узлов Европейского космического агентства (ESA).



Технология D007IH

Технология MHEMT с длиной затвора 70 нм – освоена в серийном производстве с 2011 г. Используется для реализации сверхмалошумящих схем в диапазоне от 20 ГГц до 160 ГГц. Используется в телекоммуникационных системах, устройствах спутниковой связи и пассивного формирования изображения. Средний показатель шума: 2,8 дБ на частоте 90 ГГц.

 

Характеристики:

  • Двойной грибовидный затвор 70 нм с улучшенными параметрами
  • Высокое содержание In в канале (70%)
  • Предельная частота усиления по току (Ft): – 300 ГГц
  • Сверх низкий уровень шума: мин. 0,5 дБ на частоте 30 ГГц
  • Предельная частота усиления по мощности (Fmax): 450 ГГц
  • Формирование в схеме любых пассивных элементов
  • Толщина кристалла 100 мкм (или 70 мкм по специальному запросу)
  • Возможно увеличение толщины металлического слоя для оптимизации шумовых характеристик.



Технология D01GH GaN/Si (изготовление мощных приборов)

Применяется для изготовления силовых ИС в диапазоне от 20 ГГц до 94 ГГц, а также для изготовления высоконадежных низкошумящих усилителей в диапазон от 10 до 30 ГГц. Применения: усилители мощности для систем спутниковой связи в диапазоне 27-40 ГГц и для магистральных линий связи в диапазонах 40-75 ГГц, 71-86 ГГц.

 

Характеристики:

  • Напряжение пробоя затвор-сток (Vbgd): 30В
  • Предельная частота усиления по току (Ft): 95ГГц
  • Предельная частота усиления по мощности (Fmax): 190ГГц
  • Мощность: 3,2 Вт/мм затвора на 30ГГц
  • PAE: 35%
  • Грибовидный затвор (100 нм – 60 нм)
  • Пассивация в заводских условиях (в целях низкой инерционности <10%)
  • Рекристаллизация омического контакта (для повышениямежэлектронной проводимости (Gm)
  • Формирование в схеме любых пассивных элементов



Технология D025PHS (изготовление мощных приборов)

Технология PHEMT c длиной затвора 250 нм - освоена на стадии изготовления прототипов. Применяется для изготовления силовых схем, работающих в диапазоне от 5 ГГц до 20 ГГц. Применяется для изготовления систем связи, гражданских и военных радаров, систем спутниковой связи. Может использоваться при проектировании, как интегральных СВЧ схем, так и отдельных силовых шин.

 

Характеристики:

  • Напряжение пробоя затвор-сток (Vbgd): 16В
  • Напряжение пробоя (Vt): - 0,9В
  • Предельная частота усиления по току (Ft): 37 ГГц
  • Предельная частота усиления по мощности (Fmax): 95 ГГц
  • Удельная мощность: 1,7 Вт/мм затвора на 10 ГГц